龙头上市！国产半导体设备，从何突围？

2022-04-21 来源：华强电子网

6500

今天（4月20日），拓荆科技正式登陆科创板。拓荆科技主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售和技术服务。

根据拓荆科技最新发布的上市公告书，本次上市，拓荆科技募资总额高达22.73亿元，扣除发行费用后，募集资金净额为21.28亿元，全部用于先进半导体设备的技术研发与改进项目、高端半导体设备扩产项目、ALD设备研发与产业化项目和补充流动资金。

市场广阔，从何突围？

编者还记得，去年7月，拓荆科技申报科创板IPO获受理。截至今天拓荆科技上市，共历时9个月。而登陆科创板，对于拓荆科技的发展进程来说，无疑是重要的里程碑。

实际上，拓荆科技2010年成立后，2011年其首台12英寸PECVD设备就出厂到中芯国际进行验证。2013年，拓荆科技的PECVD设备PF-300T通过中芯国际产品线测试，并于次年收获中芯国际首个量产机台PF-300T的订单。

不难发现，拓荆科技聚焦的半导体薄膜沉积设备与光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造三大主设备。其主要产品包括等离子体增强化学气相沉积（PECVD）设备、原子层沉积（ALD）设备和次常压化学气相沉积（SACVD）设备三个产品系列，已广泛应用于国内晶圆厂14nm及以上制程集成电路制造产线，并已展开10nm及以下制程产品验证测试。

来源：拓荆科技官网

从技术上来说，在晶圆制造过程中，薄膜起到产生导电层或绝缘层、阻挡污染物和杂质渗透、提高吸光率、临时阻挡刻蚀等重要作用。随着集成电路的持续发展，晶圆制造工艺不断走向精密化，芯片结构的复杂度也不断提高，需要在更微小的线宽上制造，制造商要求制备的薄膜品种随之增加，最终用户对薄膜性能的要求也日益提高。

从全球半导体薄膜沉积设备市场来看，美国应用材料（AMAT）、美国泛林半导体（Lam Research）、日本东京电子、荷兰先晶半导体（ASMI）等国际设备巨头占据主导地位。

根据市场咨询公司Gartner的数据，东京电子和ASMI分别占据了全球31%和29%的ALD设备市场；应用材料占据了85%的PVD设备市场；应用材料、泛林半导体和东京电子则分别以30%、21%和19%的市场份额，占据了七成的全球CVD设备市场。

全球ALD、CVD、PVD设备市场份额

虽然在国内市场，拓荆科技的核心技术已经达到国际水平，其产品可以与海外巨头进行正面竞争，并拿下一定的市场份额。但也很显然，相比这些国际半导体设备巨头，拓荆科技在运营规模和企业认知度上存在竞争劣势。

不过，庆幸的是，据Maximize Market Research预计，全球半导体薄膜沉积设备市场规模在2025年将从2020年的172亿美元扩大至340亿美元，保持年复合13.3%的增长速度。而长江存储、上海华力、华虹无锡、上海积塔、中芯绍兴、合肥晶合等中国本土晶圆厂正在加大设备采购力度，上述企业为拓荆科技客户。

而大环境来看，中国已成为全球半导体产业市场规模最大的地区，约占全球35%的市场份额。根据SEMI统计，2020年中国大陆地区半导体设备销售规模达187.2亿美元，同比增长39%,首次超过中国台湾地区成为全球第一大半导体设备市场。

总的来说，尽管拓荆科技所处的半导体领域，市场潜力巨大；虽然目前的半导体设备领域基本被国际巨头垄断，这也给国产化替代带来了巨大的发展空间，但面临强大对手的拓荆科技恐难突围。

竞争力有待提升？警惕产能风险

编者从募资金额的使用情况来看，先进半导体设备的技术研发与改进项目被拓荆科技放到了重点位置。项目研发内容主要包括面向28nm-10nm制程PECVD设备的多种工艺型号开发、面向10nm以下制程PECVD设备的平台架构研发及UVCure系统设备研发。

显然，当中也意在通过在集成电路生产厂商进行生产线验证，实现产品的产业化，进一步提升产品技术水平和拓展产品应用领域，推动业务规模的持续增长。

毕竟，半导体设备行业具有很高的技术壁垒、市场壁垒和客户准入壁垒，这催促拓荆科技自成立以来，也需要坚持自主研发和创新，保持较高的研发投入。相比同行业可比公司，拓荆科技前些年毛利率低于可比公司平均值，但随着其市场地位和议价能力的提升，能看到其毛利率有逐步提升的趋势。

拓荆科技毛利率历年对比（来源：招股书）

不过，鉴于拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路PECVD设备厂商，和国内可比公司以及国际半导体设备巨头的业务模式上存在一定差距。

关键的是，尽管，拓荆科技作为我国薄膜沉积设备龙头，基本上代表了我国PECVD等产品的领先水平。但从相关财报也能看出，拓荆科技当前收入较为依赖PECVD设备，ALD、SACVD设备处于市场开拓阶段，其它国际巨头占据了绝大部分市场，其盈利有着不确定性。同时，拓荆科技核心技术人员以外来专家为主，在人才培养上或需要更大的投入。