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机构:7nm以下逻辑器件极大地推动了全球ALD/CVD前驱体的增长
2022-06-28 来源:网络整理
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关键词: 英伟达 光刻机 半导体

6月27日,半导体电子材料咨询公司TECHCET报告称,2021年,ALD/CVD前驱体市场总额增长了21%,达到13.9亿美元,预计2022年将增长12%。2022年的前驱体市场将超过15.6亿美元,原因是受小于7nm逻辑器件产量增加和3D NAND器件堆叠层数增加的驱动,行业整体增长强劲。DRAM制造向EUV光刻的过渡也将带来前驱体收入增加的机会。



TECHCET高级技术分析师Jonas Sundqvist表示:“ALD和CVD是一个材料和化学成分丰富的细分行业,具有重大的发展努力,增长前景强劲,对新材料的需求也很大,同时满足成本和性能的新制造解决方案将依赖ALD前驱体材料。”


图源:网络


新材料和相关工艺技术正受到器件设计变化的推动。对于先进的逻辑,晶体管需要新的前体来形成高k栅介质和金属栅极材料等等。


DRAM存储单元继续追求更高k值的电容器。而先进的设备,需要改进的互连布线、绝缘体以及新的或更多的介质,以支持EUV和先进的ArF光刻。


由于材料的尺寸不断缩放,特别是ALD沉积的新材料,新的挑战仍然存在。在过去的5年里,区域选择性沉积已经成为一种趋势,越来越多的研发机构将这种方法应用到未来的器件中。



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