全球光刻机龙头ASML（阿斯麦）今日公布了截至2022年6月30日的第二季度财务数据。

财报显示，ASML二季度销售收入为54.3亿欧元（约合人民币375.46亿元），高于之前给出的51亿至53亿欧元的财测目标，相比2021 年同期的40亿欧元增长约35.75%；净利润为14.1亿欧元（约合人民币97.55亿元），相比去年同期的10.4亿欧元增长约35.58%；毛利率为49.1%，符合之前预期的毛利率约49%-50%的区间。

 

ASML表示，销售收入和净利润同比大幅提升的原因是新订单量创历史新高，尽管有迹象表明销售增长在放缓，但该公司仍在尽可能快地向客户交付设备。

不过，根据路孚特数据显示，虽然ASML第二季度收入超过了分析师预期的52.8亿欧元，但是其利润则低于分析师预期的14.4亿欧元。

对此，ASML表示，这主要是因为受到了通货膨胀导致成本上升的影响，使得利润率出现下滑。此外，一些系统在荷兰进行全面测试之前就开始向客户发货，导致了延迟确认收入，从而影响了收益。

二季度交付了12台EUV光刻机，设备销售额占比已达48%

从具体的净系统销售明细来看，二季度的净系统销售额为41.41亿欧元，其中EUV光刻系统的销售额占比已经由一季度的26%大幅提升到了48%，ArFi系统的销售额占比则由一季度的47%下滑到了33%。其中，EUV系统的交付量为12台，ArFi系统的交付量为21台。

以客户端应用划分来看，二季度ASML净系统销售额的71%的收入来自于逻辑芯片制造厂商，29%来自于存储芯片制造厂商。以营收来源的区域划分来看，二季度ASML净系统销售额的41%来自于中国台湾地区，33%来自于韩国，10%来自于中国大陆。值得注意的是，来自美国的占比由一季度的6%快速提升到了10%。

 

二季度预定金额创新高，High-NA EUV系统占比达63.8%

此外，ASML二季度的净预订金额达到了84.6 亿欧元（约合人民币583.55已元，一季度为70亿欧元），创下历史新高。其中就包括了包括 0.33 NA EUV系统和0.55 NA的High-NA EUV系统的54亿欧元预定金额，占比高达63.8%。作为对比，ASML一季度来自0.33 NA和0.55 NA EUV系统的预定金额仅有25亿欧元。

 

ASML目前正在开发当中的高数值孔径 (high-NA) EUV光刻机是基于 0.33 数值孔径透镜的 EUV 光刻系统的迭代产品，其具有 0.55 数值孔径的镜头，分辨率为 8 纳米，而现有的0.33 数值孔径透镜的 EUV 光刻系统的分辨率为 13 纳米，使得芯片制造商能够生产3/2nm及以下更先进制程的芯片，并且图形曝光的成本更低、生产效率更高。

据了解，第一代的0.55 NA EUV光刻机EXE:5000主要面向的是3nm工艺。而第二代的0.55 NA EUV光刻机TWINSCAN EXE:5200将会被用于2nm工艺的生产。

根据资料显示，ASML的新一代High-NA EUV系统的单台售价将达到约4亿美元，这也是ASML二季度预定金额大幅增长的关键。

在去年的年报当中，ASML有指出，其在2021年四季度就已经收到了首个第二代的0.55 NA EUV系统（TWINSCAN EXE:5200）的订单，预定的客户是英特尔。英特尔计划利用ASML的0.55 NA EUV系统来生产其Intel 20A制程。而在此之前，自2018年以来，截至2021年四季度末，ASML已经收到四份第一代的0.55 NA EUV系统TWINSCAN EXE:5000的订单。

此外，据BusinessKorea 报道，三星已就引进今年生产的 EUV 光刻设备和计划于明年推出的 High-NA EUV 光刻设备与ASML达成了协议。

ASML在二季度财报公布后披露了公司的 High-NA EUV业务进展，目前ASML已收到了来自供应商的第一台高数值孔径（High-NA）机械投影光学器件、光源以及新的晶圆载物台。这些模块将用于初始测试和集成，这是 EXE:5000系列的重要一步进展。

三季度销售额预计为51～54亿欧元，全年增长目标降至10%

对于三季度的业绩指引，ASML预计净销售额在51亿欧元到54亿欧元之间，其中包括安装管理收入约14亿欧元。后续季度延迟确认的净收入约为11亿欧元。毛利率在49%到50%之间。研发成本约8.1亿欧元。

由于供应链限制，ASML预计2022年销售额同比增长约10%，较此前预期增长20%大幅下修。毛利率在49%-50%之间

ASML 首席执行官 Peter Wennink 表示：“一些客户在某些消费者驱动的细分市场中显示出需求放缓的迹象，但我们仍然看到对我们系统的强劲需求。虽然我们仍计划在今年交付创纪录数量的系统，但供应链限制的增加导致出现了延迟。”