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我国不断突破核心技术,多久能造出高端光刻机?答案出乎意料
2022-08-01 来源:互联网乱侃秀
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关键词: 光刻机 ASML 半导体 集成电路


在去年的科技大会上,TCL创始人李东升在接受媒体采访时表示,我国将在五年内解决高端新品短缺的问题。李东生的讲话,在过去的一年里,引起了网友们的广泛关注与讨论,不少网友认为,五年之内,我国就会造出能够制造高端芯片的EUV光刻机。


近两三年来,在中国科学家的努力下,我国突破了不少EUV光刻核心技术,在一些媒体的炒作下,确实给 人一种国产EUV光刻机随时都可以完成研发工作,独自造出EUV光刻机。那么,问题来了,即便是我国在未来的五年内完成了所有EUV光刻机的研发工作,我们短时间内就能造出来吗?



答案是肯定的,即便是我们完成了所有的EUV光刻技术研发工作,短时间内也无法造出国产EUV光刻机。


几年前,我国科研人员到荷兰ASML公司学习时,该公司的一位高管曾趾高气扬地表示:即便是中国拿到了EUV光刻机图纸,也造不出来!ASML公司高管的话虽然听起来让我们很不爽,但说得并不无道理!



笔者说出这样的观点,或许会遭到一些人的反驳、批评,这些人会说:“中国造个原子弹就如同张飞吃豆芽,小菜一碟,造一个光刻机又有何难?”我并不认为这个观点错误的,EUV光刻机即便是再高端、精密,也不是神造的,中国科学家完全有能力克服一切困难,造出属于我们自己的EUV光刻机,但从ASML公司制造的EUV光刻机来看,我们要造出国产EUV光刻机,可能会需要一个很长的时间,而我国科技的伟大复兴,恰恰最缺的就是时间。



据公开资料显示,ASML公司制造EUV光刻机所需的10余万件元器件来自世界上5000多家企业,而且这些企业的技术均达到了各自细分领域的顶级水准,部分企业为了能够制造出一个完美的EUV光刻机元器件,需要耗费十年的时间。值得一提的是,这些企业,大部分属于西方企业。


几十年前,以老美为首的西方国家为了遏制我国科技的发展,签订了《瓦森纳协定》,明文禁止协定缔约国的企业向我国出售一切高端技术和元器件。从这不难看出,国产EUV光刻机的研制工作,得不到任何外援,只能依靠我们自己!



EUV光刻机的制造难度非常大,中国院士吴汉明也曾发出了这样的感慨:EUV光刻机是全人类智慧的结晶,仅凭一个国家的力量很难造得出来!


近年来,我国科技取得了巨大突破,在多个领域实现了“弯道超车”,从一个跟随者变成了引领者,这样以老美为首的西方国家很是不安,开始利用大量卑鄙手段打压中企,其中,芯片封锁成为了它们此刻打压中企的最佳手段。



所以,为了实现伟大的民族复兴梦,光刻机即便是再难造,我们也一定要克服一切困难,造出属于我们自己的EUV光刻机,打破美芯的垄断,让我国坚持独立自主发展路线的企业再无后顾之忧,以巨大优势击败竞争对手!



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