欢迎访问
能生产0.768nm芯片的光刻机,6个月交货,可惜中国大陆买不到
2022-09-27 来源:互联网乱侃秀
6451

关键词: 芯片 光刻机 ASML

目前全球最先进的光刻机,是ASML生产的EUV光刻机,用于7nm及以下的芯片制造。

而ASML预计在2024年或2025年会交付最新一代的High-NA极紫外光刻机EXE:5200,它能够制造2nm,甚至是1.8nm的芯片。


因为英特尔计划在2025年实现2nm芯片的量产,用的就是EXE:5200,所以很明显,EXE:5200是能够制造2nm芯片的。




至于2nm之后,EUV光刻机还行不行?能不能达到这个精度?目前不管是intel,还是ASML,或者是台积电、三星,目前都没有太多规划,因为还离得太远了,很多技术还没法落实,自然就不会对外公开什么。


不过近日,有一家美国企业,或许给大家提供了另外一个思路,那就是2nm之后,不一定非得用EUV光刻机,另外一套光刻系统,也一样可以实现的,那就是EBL电子束光刻机。



按照媒体的报道称,美国公司Zyvex使用电子束光刻技术制造了768皮米,也就是0.7nm的芯片。


所谓的电子束光刻机,就是利用能量非常低的电子来进行光刻,其精度远比EUV光刻机更高,所以制造出了768皮米的芯片。


Zyvex还表示称,这样的光刻机已经可以商用了,只需要6个月就可以交货,估计接下来一定会有众多的厂商找它订货。



不过中国大陆注定是买不到的,EUV光刻机都买不到,更先进的当然就更加买不到了,这个原因不用我多说。


另外值得注意的是,目前Zyvex的这种电子束光刻机有一个大缺点,那就是产量很低,无法大规模制造芯片,不过未来这种技术会不会得到改进,从而能够大规模制造芯片,就不得而知了。


反正现在该紧张的是ASML了,目前ASML靠独一无二的EUV光刻机,卡住全球晶圆厂的脖子,一旦大家不依赖EUV光刻机了,ASML该怎么办?



Baidu
map