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韩企研发出石墨烯EUV光罩保护膜,能大幅度提高5nm芯片良率
2022-12-19 来源:互联网乱侃秀
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关键词: 光刻机 集成电路 TSMC

近日,韩媒报道称,韩国企业石墨烯实验室 (Graphene Lab) 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 (Pellicle) 。

而使用这种EUV光罩保护膜后,在使用EUV光刻机进行芯片的生产时,有望显著提高生产芯片的良率。



一时之间,引发无数人的关注,毕竟良率现在是悬在台积电、三星等晶圆厂身上的利剑,并且是工艺越先进,良率越低。


比如之前就有媒体报道称,三星的5nm、4nm工艺,其良率低到离谱,甚至只有30%左右,让高通都受不了了,不得不转单台积电。


而一旦能够大幅度提升良率了,像三星这样的晶圆厂岂不是求着买?提升良率就是降低成本,提升竞争力啊。



那么问题来了, 石墨烯EUV光罩保护膜到底是什么膜,为何会有这个效果?

我们知道,在芯片制造中,EUV光刻机的作用是将光掩膜板上的电路图,通过EUV光线,刻录到涂了光刻胶的硅晶圆上。


这是至关重要的一部分,光掩膜板也是芯片流片中最贵的一部分,一个7nm的光掩膜板成本迅速升至1500万美元。


而光掩膜板上面,有一层保护膜,保护光罩表面免受空气中微分子或污染物的影响,以及保护当EUV光线刻录时带来的影响。



以有这层膜用的是硅材料制造的,现在韩企用的是石墨烯来制造这次保护膜,也就是石墨烯EUV光罩保护膜。


石墨烯性能更好,能承受更高的温度,同时有更高的硬度,更佳的透度,所以当EUV光线进行光刻时,能够降低误判,从而提升良率。


Graphene Lab表示,他们的这种石墨烯EUV光罩保护膜很快就会量产,如果真的这么神奇,那么像三星、台积电、intel等厂商肯定会抢着要,那当前的光罩保护膜市场,甚至晶圆市场格局都可能会因此而改写。 



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