近日，在芯片领域又有不好的消息传出来，日本、荷兰已与美国达成协议，同意限制向中国出口制造先进半导体所需的相关设备。

看来我国芯片被卡脖子的情况，又蒙上了一层阴影。

荷兰阿斯麦公司，想必大家都听说过，尤其是它家最强的EUV极紫外光光刻机，是全球唯一一家能够供应7纳米及以下芯片制程的光刻机，属于独霸全球的地位。

那隔壁的日本呢？千万不要以为日本的半导体产业落寞了，就在美国大举封杀中国半导体产业的同时，中国从日本市场获取了不少半导体设备。

日本芯片材料

半导体产业链是非常庞大的系统，主要有原材料、半导体设备、IC设计、晶圆制造、封装测试等细分领域。

其中，半导体设备方面，欧美日占据大部分市场份额；IC设计方面，美韩欧位居产业链顶端。

而晶圆制造方面，中国台湾的台积电占据半壁江山；封测领域方面，中国大陆、中国台湾及美国都排名前列。

很多人不了解的是，在半导体原材料领域，日本是当之无愧的强国，拥有旭化成、揖斐电、昭和电工、信越化学、富士胶片、住友化学、JSR等一大批实力强劲的半导体材料企业。

说到材料，就不得不提到一种叫做光刻胶的东西，它是一种在紫外光等光照或辐射下，溶解度会发生变化的薄膜材料。

在光刻机工作的时候，首先将光刻胶涂在硅片上形成一层薄膜，通过一系列复杂的曝光装置进行曝光后，光线会被投射到光刻胶上。

此时曝光区域的光刻胶，会发生化学变化，在随后的化学显影过程中被去除，最后掩模的图案就被转移到了光刻胶膜上。

随后通过一系列的工艺加工后，光刻胶上的图案就被转移到下层的薄膜上，再经过多次迭代以及多种物理过程，便产生集成电路。

举个形象的比喻：如果说光刻机是推动制程技术进步的“引擎”，那么光刻胶就是这部引擎的“燃料”。

就算引擎再好，如果燃料里面杂质太多，引擎也转得不快。正因如此，就算有最牛的极紫外光EUV光刻机，如果没有好的光刻胶辅助，最终芯片的光刻精度还是不行。

毫不夸张的说，光刻胶对集成电路的性能、成品率以及可靠性，起到了非常大的影响。

按照曝光波长分类，光刻胶可分为 UV: i/g型光刻胶，波长大于300nm；DUV: KrF型光刻胶，波长248nm, 和ArF型光刻胶，波长193nm；以及最新的极紫外: EUV光刻胶，波长进一步降低至28纳米以下。

从整体业态来看，目前全球光刻胶市场高度集中，日美把控着绝大部分市场份额。

其中日本的JSR、东京应化、信越化学及富士胶片四家企业占据了全球70％以上的市场份额，垄断地位稳固，尤其在高端EUV市场高度垄断，拥有绝对的话语权。

国内光刻胶方面，目前仅实现了KrF光刻胶的量产。

而且ArF光刻胶产品，仍处于下游客户验证阶段并未形成实际量产产能，而最高端的EUV光刻胶的技术储备，非常惨烈，还处于近乎空白的地步。

日本光刻胶发展史

那么日本光刻胶，是如何发展到如今垄断地步的？

光刻胶的发展，是伴随着光刻机的。换句话说，只有光刻机先被发明出来，光刻胶才会像画龙点睛一般的，给芯片的精度带来不少的提高。

虽然美国在上个世纪60年代就开始捣鼓光刻机了，也拥有GCA、Ultratech和P&E三大光刻巨头，几乎垄断了全世界的市场。

但是后来却被一个卖照相机的日企打败，没错，这个日企就是尼康，至于为什么会失败？其实原因也很简单，虽然这些巨头实力非常强大，但核心镜头还是采购别人的。

而尼康本来就是做照相机的，镜头技术那必然是炉火炖青，自给自足完全没有问题。

再加上自己对技术上的工匠精神，各项功能都追求极致，最终顺理成章地开始蚕食美国的市场份额。至于后来阿斯麦的崛起，那是后话了。

反正日本光刻机无敌后，就开始捣鼓光刻胶，也涌现出了一批光刻胶企业。

比如在1995年，东京应化率先研发出KrF光刻胶并实现大规模商业化，标志着光刻胶正式进入日本厂商的霸主时代。

2011年，JSR与SEMATECH更是联合开发出EUV光刻胶，已经站上了金字塔的顶端。

光刻胶看似简单，其实是需要大量资金投入和产业配合的，需要反复实验和工业化制备。即使工艺向前进几微米，那也需要跨越非常大的鸿沟。

日本正是凭借着多年在光刻胶上专利积累、技术跟行业经验，才可以在全球光刻胶市场上屹立不倒，并占据了领先地位。

说个数据吧，全球光刻胶第一大技术来源国为日本，专利申请量占全球光刻胶专利总申请量的46％；美国则以25％的申请量位列第二；中国则以7％的申请量排在韩国之后。

其他国家想要日本的光刻胶，不好意思，价格他说了算。关系好还行，关系不好，那就只能慢慢等。

结尾

2021年，中国进口芯片共花费4326亿美元，远远大于石油的进口额。

对于美国而言，芯片是自己为数不多的还能牟取暴利的商品了，肯定是不能轻易放弃的。所以老美才会强烈要求荷兰、日本对中国禁售光刻机以及相关设备。

这次看来，在芯片领域，日本掌控原料，荷兰掌控设备，就是要对我们搞双杀式围剿。

虽然目前国内光刻胶整体产业链都比较薄弱，供应链整合能力不强，核心原材料的国产化率也不高，但国内光刻胶企业们并没有放弃，而是一直在精益求精。

以目前南大光电、徐州博康、上海新阳、北京科华等光刻胶企业的进度来看，KrF光刻胶有望成为光刻胶国产替代的下一个主战场。

一旦KrF光刻胶被攻克后，前面还有ArF和EUV光刻胶两座大山，虽然道路还很长，但面对国外的封锁跟打压，现在留给我们的就只有一条路。

那就是丢掉幻想准备战斗，能把老美逼到这份上，说明我们路径方向是对的，后面就是力度和机遇的问题了，所以芯片国产化之路任重而道远。