现在光刻机的原理，不管是DUV，还是EUV，大家都懂的，其实就是类似于单反相机，用光线，把掩膜板上的图形，缩小以后投影到硅片上。

只不过光刻机的像素更高，7nm芯片光刻的话，像素要在室1600亿像素才行，目前手机摄像头像素最高为2亿，光刻机至少是2亿像素的800倍。

DUV、EUV光刻机，只不过是曝光的光线不同而已，比如DUV采用的是243nm或193nm的深紫外线，而EUV采用的是13．5nm的极紫外线。

明明这么简单的原理，为何却造不出来？这里，其实关键还是我们缺少一家像蔡司这样的顶级光学设备厂商。

在光刻机里面，有三大核心，不管是DUV，还是EUV都是如此。这三大核心是光源、物镜系统，工作台。

光源就是193nm或13．5nm的光源。而物镜系统就是怎么将这些控制好，进行精细的光刻。而工作台，则是放置晶圆，然后根据芯片设计图，精细的控制这些晶圆的移动，别刻歪了。

目前国内在光源、工作台上，其实是有一些积累的，所以国产DUV光刻机是有的，上海微电了就有这种光刻机。

但物镜系统上，就真的被卡住了。

拿EUV光刻机来说，使用13．5nm的光线，这种光线波长太短，空气都穿不透，所以只能在真空中传播，同时现实中没有任何材料能够反射它。

所以要控制这种光线，需要几十层钼和硅层层叠叠摞起来，还要在镜片上镀膜才能完成，每一层膜都只有纳米级别的厚度，每层误差不能超过0．01纳米。

这样的镜面究竟有多平整？要求是起伏度要低于在地球表面大小的平面上放一根头发丝。

目前国内拥有这个技术的光学厂商没有，甚至全球也就蔡司一家才有，连尼康、索尼这样的日本顶级光学设备厂商，都做不出来。

有人称，从0开始，直到拥有这种光学技术，可能比从0开始，制造光刻机都更难。因为光刻机的核心原理，其实就是制造出全世界最大、最精细的单反，核心在于光学系统。

所以，如果大家在网上看到什么国产EUV光刻机有突破了，马上要推出了之类的新闻，先看看突破的是光源，还是工作台，或者是光学设备。

如果光学设备没有突破，那么就是假的，因为目前国产连DUV的物镜系统都搞不定，需要进口，EUV就更不要说了，这种技术没有捷径，也不可能弯道超车，只有一步一步来的，类似于建房子，第1层都没建好，你说直接从空中开始，修第30层，谁信？