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国产芯片设备替代提升近七成,ASML和美国芯片行业损失超50亿美元
2023-03-09 来源:网络整理
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关键词: 芯片 光刻机 台积电

日前分析机构给出了2022年国内芯片设备行业的数据,数据显示中国的芯片设备国产化率已提升至35%,较2021年的21%提升了67%,显示国内芯片行业正加速以国产芯片设备替代ASML和美国的芯片设备。

由于众所周知的原因,中国从2019年起开始难以获得海外的芯片设备,同时国产芯片企业也认识到了海外芯片设备的不可靠,因此纷纷增加国产芯片设备的比例,推动国产芯片设备行业进入高速发展阶段。

在芯片制造的八大环节中,国产芯片设备行业已搞定七个环节,普遍已达到14纳米,其中刻蚀机已达到5纳米,这些环节都在增加国产芯片设备的比例,据悉去胶、清洗、刻蚀、封装等环节的国产芯片设备替代都已提升到三成以上。

目前国产芯片设备的薄弱环节是光刻机,国产芯片的前道光刻机还在积极攻克28纳米,不过后道光刻机却早已攻克28纳米,国产光刻机在封装环节的占比已提升到八成以上,哈工大等机构公布的光刻机技术将加速前道光刻机的发展。

近期国内多家芯片设备企业公布的业绩也证明了这些成绩,华海清科、拓荆科技都取得了营收、利润的倍速增长,盛美上海、北方华创、中微公司等也取得了业绩的大幅增长,显示出国产芯片设备企业从国内市场获得了可观的收入。

随着国产芯片设备替代进口设备,ASML和美国芯片设备行业蒙受了巨额损失。ASML公布的2022年Q3业绩显示从中国市场获得的收入占比只有一成,而此前的2022年Q1和2021年从中国市场获得的收入占比高达三成。

美国芯片设备行业同样蒙受了巨大的损失,美国芯片设备行业主要是在芯片材料方面占据优势,不过中国的芯片材料已取得不小的进步,国内的南大光电研发出了5纳米光刻胶,替代美国的光刻胶,SEMI预测美国的芯片设备行业损失的收入估计达到50亿美元。

随着国产芯片设备的进展,国产芯片设备不仅在国内市场替代海外设备,它们还开始走向国际市场,国产的5纳米刻蚀机就已获得台积电的认可,显示出国产芯片设备的竞争力在快速提升,给海外同行造成了巨大的压力。

面对中国芯片设备的快速成长,ASML就迅速转变了态度,ASML之前曾声言即使给中国图纸也生产不出光刻机,而早前ASML高管却表示只要给予时间,中国迟早能生产出先进的光刻机,林毅夫也表示只要3年时间中国就能生产出先进光刻机。

知名院士倪光南说过,先进技术是求不来的、买不来的,必须加强自主研发,如今中国芯片设备行业的进步证明了中国芯片的自研实力快速提升,国产芯片实现完全自主的目标必将实现,而海外芯片设备行业将因此失去中国这个庞大的市场。



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