众所周知，目前卡住中国芯片产业的关键设备是光刻机。只要光刻机突破，拥有自己的浸润式光刻机，以及EUV光刻机，芯片产业的脖子就没有了，美国就卡不住了。

而近日ASML对光刻机出口进行了补充说明，TWINSCAN NXT：2000i及之后的浸没式光刻机不能出口，浸润式光刻机，只能出口比较落后的TWINSCAN NXT：1950i

很多人表示，把这台光刻机买回来，然后拆了研究，再模仿出来，以后就能够自己生产浸润式光刻机，不需要ASML了。

那么问题就来了，大家都说中国的模仿能力强，ASML的光刻机，我们能模仿出来么？

事实上，之前网上就流传一句话，那就是给你们全套光刻机的图纸，中国也制造不出光刻机来，意思就是光刻机，不是看了图纸，或者知道原理就能造出来的。

要是真能够模仿，估计国内早就有了浸润式光刻机了，甚至连EUV光刻机都有了。

原因在于ASML的光刻机，需要大量的核心元件，这些元件，是模仿不出来的，而国外厂商也不卖给你，我们制造不出来，所以高端光刻机，我们制造不出来。

光刻机有三大核心部分，一是光源，二是物镜系统，三是工作台。

就拿浸润式光刻机来说，光源这一块，需要193nm的紫外线光源，这一块我们能够搞定，工作台方面，我们也算是能够搞定，最多品质差一点点，精度差一点点。

但是物镜系统这一块，国内搞不定。物镜系统是光刻机中最昂贵的部分，浸没式光刻物镜异常复杂，涵盖了光学、机械、计算机、电子学等多个学科领域最前沿。

目前全球只有一家厂商有这个技术，那就是德国的蔡司公司，不过它的技术不能卖给中国，是受限制的。

所以，就算我们知道光刻机原理，甚至拿到图纸，还有ASML的实物光刻机，拆了又拆，也制造不出物镜系统来，因为这是全球最顶尖的光学技术，我们没有。

所以，很多高精尖的东西，并不是模仿就能够模仿出来的，能够模仿的，都是没有太多科技含量，没有什么门槛的东西，作为全球最精密的仪器--光刻机，要是能这么好模仿，那就卡不住脖子了。