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我们已经实现3nm芯片的设计、封测、只差制造了
2023-04-11 来源:只谈数码科技
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关键词: 芯片 光刻机 台积电

不管大家承认不承认,在芯片的设计、制造、封测这三个环节中,我们设计、封测其实是紧跟世界领先水平的,基本上与全球技术同步。


何谓与全球技术同步?就是说当全球实现了3nm工艺时,我们就能设计3nm芯片,封测3nm芯片,并不会落后太多。




先说设计这一块,之前最典型的代表是华为海思,其设计能力与世界水一是同步的,麒麟芯片更是与高通、苹果等高端手机芯片打得有来有回的。


而除了麒麟芯片之外,国内还有很多的矿机企业,其设计的芯片,也是与全球芯片水平同步的,比如今年上半年,三星3nm芯片的首批客户,就是国内的矿机公司,全球首批使用3nm工艺的IC厂商。




再说封测这一块,国内有三大封测企业,分别是长电科技、通富微电、天水华天,这三大企业在全球封测企业的排名上,排名全球第3、5、6名,合计全球份额高达20%左右。


而这三大企业的封测能力,与全球水平也是同步的,这三大企业甚至还是高通、联发科、台积电等的合作伙伴,帮助这些企业进行芯片封测的。


目前像天水华天、长电科技、通富微电均明确表示,已能封测4nm的芯片,同时3nm的芯片也准备好,一旦晶圆厂生产出来,就能够封测。




至于芯片制造这一块,那就还差得太远了,目前全球顶水平是3nm,但国内的最顶尖的水平还是中芯的14nm。


从14nm到3nm,中间还差了10nm、7nm、5nm,也就是说相差4代,按照正常速度,这4代追上来都要8年左右。


现在加上美国的禁令,这4代要追上来,可能还遥遥无期,毕竟半导体设备、光刻机等的突破,真的不容易。



可见,实现芯片的“独立自主”,不依赖国外,我们搞定先进芯片的设计、制造、封测,还需要多加努力,特别是制造,千难万难,我们必须得自己行才行,靠山山倒,靠人人跑,只有靠自己,才啥都不怕啊。



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