美国限制ASML对中国出售先进光刻机，甚至还限制对中国出售14纳米以下的光刻机，然而近日ASML总裁却说“中国自研光刻机是破坏全球芯片产业链”，如此言论或许是看到了中国的光刻机已取得重大突破，担忧它的市场被侵蚀。

中国一直都在努力推进光刻机，此前数年一直止步于90纳米光刻机，这让ASML大举从中国市场赚取了丰厚的利润，2021年和2022年Q1中国市场为它贡献了三分之一的收入，2022年下半年在美国的压力下，ASML从中国市场获得的收入逐渐下降，但是2022年中国市场仍然为它贡献了29亿欧元的收入，占其营收的比例达到14%。

ASML从中国市场获得的这笔收入还是在限制对中国出售先进的EUV光刻机以及14纳米以下DUV光刻机取得的，中国购买的DUV光刻机占ASML在2022年销售的DUV光刻机数量达到25%，中国市场已成为ASML的DUV光刻机最大市场了。

ASML曾希望未来3年时间将DUV光刻机的产能扩大到600台，自然DUV光刻机的主要销售对象就是中国市场，然而受美国的阻挠，ASML如今可以对中国销售的最先进DUV光刻机为1980Di，这是一款38纳米光刻机，技术已经相当落后，中国力推的28纳米用这款光刻机需要多重曝光技术，生产成本较高，因此吸引力其实不大。

更为重要的是中国一直在力推28纳米光刻机的量产，两年前中国就已对28纳米光刻机进行验证，据悉当时的28纳米光刻机在工艺稳定性方面还稍有不足，但是哈尔滨工业大学研发的“高速超精密激光干涉仪”却可以解决这个问题，确保光刻机整合后的工艺稳定性，推动28纳米光刻机的量产。

ASML高管曾表示即使给中国图纸，中国也无法量产先进的光刻机，然而随着中国先进光刻机的推进，他迅速改口，认为中国可以很快研发出国产先进光刻机；两年前还有国内专家表示只要3年时间中国就能量产28纳米光刻机，算算时间，如今国产28纳米光刻机离量产的时间越来越近了。

此时ASML总裁却说出“中国自研光刻机是破坏全球芯片产业链”，恰恰印证了中国的28纳米光刻机已进入量产阶段，甚至可能已量产成功，这才导致他说出如此的话，反映出他相当担忧中国自研的光刻机替代ASML的光刻机。

其实更让ASML担忧的是28纳米光刻机属于浸润式技术的光刻机，而从28纳米到7纳米的DUV光刻机都采用了浸润式技术，中国量产28纳米光刻机就代表着解决了浸润式光刻机这项重要技术，其后研发14纳米、7纳米DUV光刻机的难度将大大减小，这更是让ASML害怕。

2005年ASML依靠浸润式光刻机技术击败日本的干式光刻机，由此奠定了ASML在光刻机市场的王者地位，而浸润式光刻机技术其实是台积电的技术高管林本坚发明的，近几年来中国大陆吸引了中国台湾的诸多芯片技术人才，累积吸引的中国台湾芯片技术人才数量高达3000人，随着这些人才的加入，中国研发浸润式光刻机取得突破在情理之中。

ASML当年获得中国台湾的浸润式光刻机技术之前，在日本的尼康和佳能打压之下连生存都成为问题，获得了浸润式光刻机技术之后才成为光刻机巨头，它当然担忧中国取得浸润式光刻机技术之后，再度沦落回当年那样的窘境，因此慌乱说出如此话语也就得以理解了。