如果大家关注光刻机的消息，会发现网上各种光刻机突破，今天这家公司突破了，明天那家公司突破了，甚至是打破ASML的垄断等等……

也许都是网友们在自嗨，也许是真的突破，也不排除网友们在乱吹牛，乱沸腾。反正按照网上曝光的各种消息来看，国产EUV光刻机似乎都量产了N年了，因为各种突破，都比ASML技术更厉害一样，属于顶尖技术。

但时至今日呢？我们对外公开的光刻机精度，依然是90nm，连浸润式光刻机都造不出来，至于EUV光刻机，那就更别说了，可能在梦里吧。

说真的，我不是要泼冷水，我只是觉得不能量产的各种光刻机突破，都是纸上谈兵，没有用，除了可以自嗨。

一台光刻机的研发，从提出原理，再到生产原型机，最后到量产，再到交付实际使用，最终实现高良率，这条路是非常漫长的。

ASML的EUV光刻机，最开始是美国等几大厂商一起研究，提出原理进行验证，然后难证后，再交给ASML来制造。

从提出原理，到2006年ASML交付第一台EUV原型光刻机，实际经过了10多年。但ASML的第一代光刻机Alpha EUV，都是用于测试。

而到2010年才推出第二代EUV光刻机，型号是NXE:3100，还是用于测试。直到2013年ASML才真正推出了量产型号NEX:3300B。

可见，从原型机推出，到最后能规模量产的EUV光刻机，ASML都搞了7年，足见从理论到实际，需要的时间有多久了。

所以，目前时不时冒出来的什么光刻机突破，什么EUV光线突破，有多么的不靠谱。就算是靠谱的突破，从理论到真正实现量产，可能也是10年甚至更久之后的事情去了。

所以，我觉得，大家别自嗨，谨慎看待目前网上流传的各种五花八门的关于什么EUV光刻机突破的消息，靠不靠谱还两说，就算靠谱，也是短时间之内无法量产，先别激动。

当然，我不是说这些突破就不需要了，毕竟任何产品都是从理论开始的，但这中间需要一个极长的过程，先别吹牛，慢慢把基础打扎实了再说。