近日，美国的三家芯片巨头英特尔、高通和英伟达以及美国半导体协会（SIA）齐声向美国政府施压，劝说其不再对中国采取限制措施。这一动作引发了广泛关注，然而背后隐藏的原因却是这些企业担心重演ASML在美国对中国科技压制中的命运。

早在此前，ASML作为全球芯片制造行业的关键供应商，在美国的压力下不得不放弃中国市场，成为了科技战中的“炮灰”。现在，中国的首台半导体光刻机问世，填补了中国在半导体产业技术上的空白，但对于这些海外芯片巨头来说，它可能意味着市场份额的减少和利润的丧失，因此他们不得不迫使美国政府改变对中国的禁令。中国的科技进步已经不容忽视，海内外的芯片企业应当正视形势，与中国开展创新合作。


来自中国的反制

今年6月30日，荷兰政府颁布了新的一系列针对我国半导体发展的出口管制条例。这是在美国、日本之后，宣布半导体生产设备出口管制最新措施，尤其限制相关设备流入中国。的出口管制条例颁布后，ASML公司要出口光刻机就必须得到政府的许可，否则就违反了政府法令。从EUV光刻机受限，扩大到部分浸润式DUV系统也不能出口，可以说是全方位的围追堵截了。

不过，荷兰做梦也不想到，仅仅过了3天，7月3日中国商务部就宣布，为了维护国家安全，将决定对镓、锗相关物项实施出口管制，一石激起千层浪，美国、日本、荷兰都傻了眼，纷纷表示抗议。中国的反制有多厉害呢，可以说，除了带头对中国芯片产业设限的美国，日本和荷兰都将深受其害，而荷兰光刻机公司ASML更是面临严峻的挑战，一不小心就有可能沦为“炮灰”。

镓、锗出口管制对于西方来说无疑是捏在了七寸之上。有人或许有疑问，为什么不出口管制稀土呢，众所周知，稀土是高端工业中的稀缺资源，又是中国占据技术优势的项目，限制稀土无疑能让外国生产链感受到受制之痛。事实上，镓锗的出口管制另有深意。镓和锗之所以之前默默无闻，是中国作为全球化制造大国的一环掩盖了它们的重要地位。

由于我国对全球的平价供应，镓和锗的生产集中度很高。作为第二代、第三代半导体的重要材料，砷化镓、氮化镓都提高了半导体的功能性，镓被称为“电子工业脊梁”，广泛用于半导体、光电材料、太阳能电池等等领域。而作为优异的红外光学材料，锗也是高科技制造中不可缺少的材料，对于电子信息产业和国防领域来说，都有重要的影响。因此，虽然两者不是稀土，对西方的半导体甚至高科技生产领域来说，那都是必须常备的物资。

只不过，镓和锗的最大供应商是谁呢？中国。目前世界探明的有色金属镓只有27.93万吨，中国有19万吨多。在2021年，全球产量中，中国产量超过90%。而锗的储量，中国虽然不是最多，但中国的产出供应了全球68.5%。对于荷兰来说，只要算一笔账，就知道中国出口管制以后，对荷兰的影响有多大了。


荷兰和ASML成了“炮灰”

近年来，美方不断挑起“芯片战”，不但自己搞半导体出口限制，还拉拢日、荷一起搞。日前，日本出台了23种半导体设备的限令，荷兰也出台了先进半导体制造设备的额外出口管制措施。

不过好戏才刚开始，他们出台了相关措施后，我们也对镓和锗两种重要原材料进行出口管制。这下引起了广泛关注，而美国媒体坐不住了，居然出来甩锅了。近日，美媒《华尔街日报》日前发文表示，光刻机禁令都是荷兰所为。报道指出，这份禁令（荷兰光刻机禁令）并非源自美国，而是来自荷兰，国际半导体市场正在陷入波澜！言下之意是说，因为荷兰出台了光刻技术的禁令，引起了半导体市场波澜。

而这个波澜，说白了是因为镓和锗两种重要原材料，他们认为以后可能用不了了。而在美媒眼里，这一切的过错都在荷兰，与美方没什么关系。在美媒眼里，荷兰和ASML只不过是“炮灰”而已，需要的时候，赶鸭子让它们上。我们都很清楚，美方一直在半导体领域里加强限制，为了达到目的，老美是多次施压荷兰。

但事实上，荷兰和ASML先前是一直对此事保持了距离，并不想参与进来。ASML还多次的发出警告，中国是全球半导体产业的重要参与者，希望不要与其脱钩。然而，美方却多次“游说”荷兰，甚至还表示：即便不同意也会想办法让其同意。如此情况之下，荷兰也就硬着头皮而上，出台了相关的光刻机出口管控措施。不难看出，这都是在配合美方的出口管制措施，这也得到了美商务部副部长唐纳德·里德的认可，他表示：“我们非常感谢荷兰政府在解决这个共同的挑战方面与我们合作。”

可是，这才不到两周的时间，情况又反转了。因为我们出手了，对镓和锗两种重要原材料的出口作出了管制，如果西方无法进口这些原材料，日子就不好过了。因此，美国媒体开始“批评”荷兰了，言语中尽是：光刻技术禁令是你荷兰弄的，现在被反制了，你要负责。这是什么情况？言外之意就是暗示荷兰才是罪魁祸首，如果想找麻烦冤有头债有主，不要连累到美方。

很显然，这就是妥妥地把荷兰和ASML当成“炮灰”了，用完了就扔。


中国首台国产光刻机交付

近日，中国首台国产光刻机在北京交付使用，这一消息引起了全球科技界的广泛关注。光刻机作为半导体制造过程中的核心设备，一直以来都是美国和荷兰等发达国家的技术垄断领域。然而，中国的突破意味着这一局面正在发生改变，美国和荷兰自讨苦吃。

光刻机是半导体制造过程中最关键的设备之一，用于将电路图案投射到硅片上，是芯片制造的核心环节。然而，由于光刻机技术的复杂性和高度的专业性，全球范围内只有少数几个国家能够进行光刻机的研发和生产。美国和荷兰一直以来都是光刻机技术的主要供应国，垄断了全球市场。

然而，中国在光刻机领域的突破意味着这一局面正在发生改变。据媒体报道，中国首台国产光刻机的交付，标志着中国在光刻机技术上取得了重要的突破，毫无疑问这也是中国半导体产业发展史上的里程碑。这台光刻机由中国科学院和中国电子科技集团公司等联合研发，它采用了自主研发的技术，具有与国际先进水平相当的性能指标。

美国和荷兰作为光刻机技术的主要供应国，一直以来都享有垄断地位。然而，中国的突破将给它们带来巨大的冲击。中国的光刻机技术已经达到了与国际先进水平相当的程度，不仅在性能指标上可以与美国和荷兰的产品相媲美，而且在价格上具有明显的竞争优势。这将使得中国的光刻机在全球市场上具有更大的竞争力。

中国首台国产光刻机的交付，不仅对中国科技实力的提升具有重要意义，也对全球科技竞争格局产生了重要影响。中国的突破将加速全球光刻机技术的发展，推动全球科技创新的进程。同时，中国的突破也将为中国在国际科技合作中发挥更大的作用提供了新的机遇。

然而，光刻机技术的发展仍然面临着许多挑战。光刻机技术的复杂性和高度的专业性使得其研发和生产仍然具有一定的难度。同时，全球范围内的科技竞争也在不断升级，中国需要继续加大投入和研发力度，保持科技创新的领先地位。

总之，中国首台国产光刻机的交付标志着中国在光刻机技术领域迈出了重要的一步。这将为中国在半导体制造领域的发展提供坚实的基础，也将为全球光刻机技术的发展注入新的动力。中国的突破不仅是科技实力的体现，也是中国在科技创新方面取得的重要成果。相信在不久的将来，中国将在光刻机技术领域取得更多的突破和成就。