光刻胶是半导体制造过程中不可或缺的关键材料之一，也是目前国内外半导体产业链中的短板之一。据中国海关总署数据，2023年1-6月份，我国从日本进口的光刻胶额为5.47亿美元，同比下降9.1%，6月份进口额为1.06亿美元，同比下降8.2%，环比增长9.4%。

日本是全球光刻胶的主要生产地，也是我国第一大进口来源国。2022年，我国感光化学品进口总额23.50亿美元，从日本进口额12.05亿美元，占比51.3%。2023年上半年，从日本进口的光刻胶占我国总进口额的近一半。这反映了我国在光刻胶领域的高度依赖性，也暴露了我国在半导体制造中的薄弱环节。

光刻胶的种类和性能直接影响着半导体芯片的制程和性能。随着半导体技术的不断发展，对光刻胶的要求也越来越高。目前，全球光刻胶市场由日本、美国、欧洲等少数几家企业垄断，其中日本企业更是占据了超过70%的市场份额。这些企业拥有强大的研发能力和专利优势，对光刻胶的生产和供应具有绝对的控制力。

我国在光刻胶领域起步较晚，缺乏核心技术和专利保护，目前还无法实现自主生产和供应。尽管近年来有一些国内企业投入了大量资金和人力进行研发和试产，但距离实现量产和商用还有一定的差距。受到国际市场的供需变化、贸易摩擦、汇率波动等因素的影响，我国从日本进口的光刻胶价格和数量都存在较大的波动和不确定性。

为了打破国外垄断，提高我国在半导体领域的自主可控能力，我国政府和行业组织都在加大对光刻胶领域的支持和扶持。例如，设立了专项基金、建立了产业联盟、制定了标准规范、加强了人才培养等。同时，也鼓励国内外企业之间进行合作交流，共同推动光刻胶技术的进步和创新。

据预测，随着我国半导体产业的快速发展，对光刻胶的需求将持续增长。未来几年内，我国有望实现部分类型和规格的光刻胶自主生产和供应，逐步缩小与国外先进水平的差距，为我国半导体产业链的完善和壮大做出贡献。