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EUV光刻的三大核心部件,我们发展到什么程度了?
2023-09-18 来源:科技专家
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关键词: 光刻机 台积电 中芯国际

最近网上又有众多的关于EUV光刻机突破的消息,这些内容真真假假,让网友们沸腾了一次又一次。


但与此同时,也让网友们有了更多的疑问,那就是国产光刻机,究竟发展到哪一步了?


事实上,目前门面上对外公开的技术,我们最先进的光刻机是上海微电子的SSA600/20系列,分辨率是90nm。



这是一台DUV光刻机,但是干式的那一种,光源是193nm波长的深紫外线,这种DUV光刻机,其最高支持的工艺是65nm。


不过按照网友们的猜测,这只是对外公开的,不对外公开的肯定不止,那么究竟有没有更先进的光刻机,这个我不去猜测,我也不清楚。



不过,我可以从光刻机的三大核心器件,来分析一下,目前这三大器件发展到什么程度了,大家根据这几大器件来参考一下吧。


光刻机的三大核心器件,分别是光源、物镜系统、工作台。


光源很容易理解,比如193nm波长的深紫外线,然后就是13.5nm的极紫外线。其中DUV光刻机,包含浸润式光刻机,均是采用193nm波长。


只是浸润式光刻机中,在工作台上面,会有一层水,而193nm波长的光源,经过水时会进行折射,等效于134nm波长的光源了。



目前国产光刻机,采用的是193nm的光源,至于13.5nm波长的极紫外线,目前没有搞定,前几天清华大学的那个SSMB-EUV方案,至少目前还没有真正搞定。


再说物镜系统,这里主要指的是蔡司提供给ASML的光学系统,目前全球能够生产浸润式光刻机物镜系统,包括EUV光刻机物镜系统的厂商,全球只有一家,那就是蔡司。


国内有了DUV干式光刻机,所有了DUV干式光刻机的物镜系统,之后还有浸润式光刻机的物镜系统,还有EUV光刻机的物镜系统,这是两个很大的坎。



最后说说工作台,工作台由曝光台、流量台两部分组成,也就是双工作台。目前国内的技术,也是DUV光刻机的工作台,不过据说差别不是特别大,所以这一块应该不是太难的点。


而浸润式光刻机的工作台,又有一点不一样,在工作台上面,有一层浸润式系统,这个至少没有公开资料显示,我们有没有搞定也不清楚了。



事实上除了这三大核心器件之外,像光束矫正器、光束形状设置、遮光器、能量探测器等等,都是非常有难度的,并且不同的光刻机,要求都不一样,并不能通用的。


所以,网上什么这个突破,那个突破,也要看情况,单一的EUV光源或某件东西的突破,并不能让整个光刻机技术突破,需要众多的突破一起才行。


当然,正如我前面所言,这些都是明面上的东西,也许我们特意低调,闷声发财,不对外公布也是有可能的,所以本文仅供参考。



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