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ASML浸润式光刻机,能生产7nm芯片?美国:禁止卖给中国
2023-10-23 来源:只谈数码科技
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关键词: ASML 芯片

众所周知,目前的芯片制造光刻机,分为很多种。比较常规的分法是G线、I线、KrF、ArF、ArFi、EUV光刻机这么6种。


为何会这么分呢?原因是这6种光刻机,采用不同波长的光源,然后可以制造的芯片工艺也不一样,如下图所示,一看大家就都懂的。



当然,目前最受大家关注的,主要还是ArF,ArFi,EUV这三种,也是目前需求最大的三种。


其中ArF是普通的干式DUV光刻机,采用193nm波长的深紫外线,所以称为DUV光刻机。


ArFi与ArFi其实是差不多,也是193nm波长的深紫外线,也可以称之为DUV光刻机,不过这种光刻机,在硅晶圆上采用了一层水来作为介质,而193nm波长的深紫外线,经过水折射后,等效于134nm的波长,所以也称之为浸润式光刻机。



ArF与ArFi只有一层水的差距,但也因为这一层水,可以制造的芯片就不一样了。普通干式DUV光刻机,最小可以支持到65nm工艺。


而ArFi这种浸润式光刻机,最小可以支持到7nm工艺,不过需要采用多重曝光技术,这些曝光技术,主要有LELE,LFLE,以及SADP、SAQP这4种,这里就不一一展开去谈了。



以前ASML的DUV光刻机,也包括浸润式光刻机,是可以卖给中国的。后来在今年9月份,荷兰的芯片禁令执行,ASML的浸润式光刻机中,只有NXT:1980Di这台最老的能卖,新的型号都不能卖了,不过ASML表示它已经获得了许可证,年内暂时还不受影响。


但近日,美国再次升级禁令,根据新的规则,这次ASML所有的浸润式光刻机,都不能卖到中国来了,除非有许可证。


至于年内,ASML的许可证有没有效,中国还能不能随便买ASML的浸润式光刻机,暂时还没有确切消息,但从明年开始,肯定是任何浸润式光刻机都不能卖了,除非ASML调整参数,进行阉割,以满足美国禁令的要求。



美国为何这次针对浸润式光刻机下手?原因很简单,前面已经讲过了,那就是浸润式光刻机,经过多重曝光,最高可以支持7nm工艺。


而美国去年就想将中国芯片工艺锁死在14nm的,谁知道今年Kirin9000S出炉,它等效于7nm,这明显算是打脸美国了,于是美国赶紧升级,直接将浸润式光刻机也禁了,美国不希望再有类似的事情发生。



那么,在这样的情况之下,我们的7nm还有戏么?短时间之内肯定有戏,因为之前买的还能够使用啊。至于很长一段时间之后,也许我们自己的ArFi光刻机有了突破呢?所以其实我们也不必太担心,认真研究,努力突破,减少对国外设备的依赖,是我们的必由之路,按照这个目标一直走,一定会成功的。



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