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我们芯片技术追上美国,达到7nm?美国很愤怒:断供DUV光刻机
2023-10-26 来源:科技专家
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关键词: 中芯国际 光刻机 台积电

在今年上半年的时候,全球芯片制造技术进入10nm的厂商,全球只有三家,分别是台积电、三星搞定了3nm,而intel搞定了7nm。


其它所有芯片厂商,其制造技术均在10nm之外,比如中芯国际对外公开的一直是14nm,而格芯、联电等还在28nm,华虹则在40nm……


而台积电、三星、intel一直是美国掌控的,所以美国对于这三家搞定10nm及以下的芯片技术,一点都不担心。



美国担心的是中国大陆的企业,搞定10nm及以下的技术,所以我们看到,在去年10月份的时候,美国出台所谓“史上最严”的芯片禁令,将用于14nm芯片以下的设备全部禁了。


美国认为,没有了用于14nm以下工艺的半导体设备,估计就制造不出10nm、7nm这个级别的芯片了吧,那就会被锁死在14nm,以后的先进芯片,只能从美国进口,美国就能够获得经济利益、政治利益。



不曾想,华为Kirin9000S横空出世,狠狠的打了美国一个耳光,直接告诉美国,你禁了14nm以下的半导体设备也没用, 我们也能搞出等效于7nm的芯片出来,突破你的封锁,因为这颗芯片等效于台积电的N7工艺,而性能居然与高通骁龙888这颗5nm的芯片媲美。


这颗芯片让美国很愤怒,所以我们看到这颗芯片发布之后,美国的政客们上窜下跳的,各种封杀这个、封杀那个的说法叫嚣不停。



最后,果然美国还是升级了芯片禁令,将高端的DUV全禁了,连ASML在去年禁令下,原本可以出口的唯一一台浸润式光刻机NXT:1980Di也禁了,新的禁令规则之下,已经不能再出口到中国大陆来了。


如果接下来ASML针对浸润式光刻机不进行阉割,针对中国大陆市场做出修改,那么所有浸润式光刻机,都不能卖给中国,全面断供。



美国的想法很明显,既然浸润式光刻机,可以采用多重曝光技术,最终实现7nm,那么我将所有浸润式光刻机都禁了,看你如何搞出7nm芯片来。


那么问题来了,接下来我们还会有7nm芯片,甚至5nm、3nm芯片么?


在我看来,当然会有的,短时间之内的话,之前买的那些浸润式光刻机,一样可以用的,解决短期需求没点问题,至少7nm不是问题。



而从长期来看的话,国内光刻机会突破的,从之前媒体曝光的情况来看,离我们自己搞出浸润式光刻机,估计也不远了。


所以这次断供高端DUV光刻机,估计美国依然是徒劳,只会让中国芯片产业链加速崛起,你觉得呢?


当然,在这个过程中,我们还需要低调,努力,更不能自嗨,目前我们的芯片供应链和美国比起来,确实弱很多,所以埋头苦干,少吹牛干实事才是正道。



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