在今年上半年的时候，全球芯片制造技术进入10nm的厂商，全球只有三家，分别是台积电、三星搞定了3nm，而intel搞定了7nm。

其它所有芯片厂商，其制造技术均在10nm之外，比如中芯国际对外公开的一直是14nm，而格芯、联电等还在28nm，华虹则在40nm……

而台积电、三星、intel一直是美国掌控的，所以美国对于这三家搞定10nm及以下的芯片技术，一点都不担心。

美国担心的是中国大陆的企业，搞定10nm及以下的技术，所以我们看到，在去年10月份的时候，美国出台所谓“史上最严”的芯片禁令，将用于14nm芯片以下的设备全部禁了。

美国认为，没有了用于14nm以下工艺的半导体设备，估计就制造不出10nm、7nm这个级别的芯片了吧，那就会被锁死在14nm，以后的先进芯片，只能从美国进口，美国就能够获得经济利益、政治利益。

不曾想，华为Kirin9000S横空出世，狠狠的打了美国一个耳光，直接告诉美国，你禁了14nm以下的半导体设备也没用， 我们也能搞出等效于7nm的芯片出来，突破你的封锁，因为这颗芯片等效于台积电的N7工艺，而性能居然与高通骁龙888这颗5nm的芯片媲美。

这颗芯片让美国很愤怒，所以我们看到这颗芯片发布之后，美国的政客们上窜下跳的，各种封杀这个、封杀那个的说法叫嚣不停。

最后，果然美国还是升级了芯片禁令，将高端的DUV全禁了，连ASML在去年禁令下，原本可以出口的唯一一台浸润式光刻机NXT:1980Di也禁了，新的禁令规则之下，已经不能再出口到中国大陆来了。

如果接下来ASML针对浸润式光刻机不进行阉割，针对中国大陆市场做出修改，那么所有浸润式光刻机，都不能卖给中国，全面断供。

美国的想法很明显，既然浸润式光刻机，可以采用多重曝光技术，最终实现7nm，那么我将所有浸润式光刻机都禁了，看你如何搞出7nm芯片来。

那么问题来了，接下来我们还会有7nm芯片，甚至5nm、3nm芯片么？

在我看来，当然会有的，短时间之内的话，之前买的那些浸润式光刻机，一样可以用的，解决短期需求没点问题，至少7nm不是问题。

而从长期来看的话，国内光刻机会突破的，从之前媒体曝光的情况来看，离我们自己搞出浸润式光刻机，估计也不远了。

所以这次断供高端DUV光刻机，估计美国依然是徒劳，只会让中国芯片产业链加速崛起，你觉得呢？

当然，在这个过程中，我们还需要低调，努力，更不能自嗨，目前我们的芯片供应链和美国比起来，确实弱很多，所以埋头苦干，少吹牛干实事才是正道。