欢迎访问
国产光刻机大举抢占市场,取得超过八成的份额,加速技术升级
2023-11-16 来源:柏铭007
477

关键词: ASML 芯片

在光刻机市场,业界都清楚ASML是老大,中国的光刻机技术还远远落后,不过这里说的其实是前道光刻机,芯片制造行业除了前道光刻机之外,还有后道光刻机,而后道光刻机则是国产光刻机取得优势。



后道光刻机又叫封装光刻机,后道光刻机的技术难度比前道光刻机小许多,因此中国的光刻机企业在后道光刻机技术上已取得巨大的进展,甚至还在国内市场取得近乎垄断的份额。


据统计数据指出国产光刻机在国内后道光刻机市场已取得85%的市场份额,中国的封装企业大多采用国产的后道光刻机,去年富士康大举建设芯片封测厂更是一举采购了国产的46台后道光刻机,甚至国产的后道光刻机还取得了出口。


国产的后道光刻机能取得如此巨大的市场份额,在于国产的后道光刻机技术方面已达到7纳米的水平,可以满足国内大多数芯片技术需求,在国内力推国产芯片设备替代的情况下,国产的光刻机大举抢占市场。



另一个原因则是中国的芯片设备成本更低,在如今全球芯片行业都在压成本的情况下,中国的光刻机技术能满足封装企业的需求,低成本优势明显,国内外的芯片封测企业都愿意采用,有利于国产的后道光刻机抢占市场。


国产光刻机在后道光刻机市场取得的优势,为它们增强技术研发提供了支持,毕竟光刻机技术研发是很烧钱的事情,持续靠国家输血,终究很难长久推进技术研发,而光刻机企业通过占领后道光刻机市场则可以获得更多收入,推进前道光刻机的研发,形成良性循环。


由于在后道光刻机市场获得了大量收入,国产的光刻机企业确实在技术研发方面也在加速推进,国产光刻机在今年中传出的消息指已成功突破了浸润式光刻机技术,该项技术可以应用于28纳米到7纳米工艺。



对此予以佐证的则是ASML在今年9月份突然宣布对中国出口更先进的2000i光刻机,2000i光刻机可以用于生成7纳米,此前对中国出口的1980Di则主要用于28纳米,这意味着ASML肯定了中国取得7纳米光刻机技术的突破,它希望抓住时间窗口大举对中国出口更先进的2000i光刻机获取收入。


据称ASML这次对中国供应的2000i光刻机不仅量大,价格也实惠,因此中国的芯片纷纷抢购,甚至有芯片制造企业不仅为生产线大举购买2000i光刻机,还囤积了部分2000i光刻机,以作为后备的替代,ASML表示明年能否获得许可存在疑问。



ASML突然松口,说明了中国只要坚持技术研发,取得技术突破,海外的芯片设备企业就会迅速松口,证明了自主创新的重要性,只有自主研发真正取得了突破,海外芯片设备企业才会松口,正如知名院士倪光南所言,先进技术买不来、求不来,只能靠自研。



Baidu
map