在光刻机市场，业界都清楚ASML是老大，中国的光刻机技术还远远落后，不过这里说的其实是前道光刻机，芯片制造行业除了前道光刻机之外，还有后道光刻机，而后道光刻机则是国产光刻机取得优势。

后道光刻机又叫封装光刻机，后道光刻机的技术难度比前道光刻机小许多，因此中国的光刻机企业在后道光刻机技术上已取得巨大的进展，甚至还在国内市场取得近乎垄断的份额。

据统计数据指出国产光刻机在国内后道光刻机市场已取得85%的市场份额，中国的封装企业大多采用国产的后道光刻机，去年富士康大举建设芯片封测厂更是一举采购了国产的46台后道光刻机，甚至国产的后道光刻机还取得了出口。

国产的后道光刻机能取得如此巨大的市场份额，在于国产的后道光刻机技术方面已达到7纳米的水平，可以满足国内大多数芯片技术需求，在国内力推国产芯片设备替代的情况下，国产的光刻机大举抢占市场。

另一个原因则是中国的芯片设备成本更低，在如今全球芯片行业都在压成本的情况下，中国的光刻机技术能满足封装企业的需求，低成本优势明显，国内外的芯片封测企业都愿意采用，有利于国产的后道光刻机抢占市场。

国产光刻机在后道光刻机市场取得的优势，为它们增强技术研发提供了支持，毕竟光刻机技术研发是很烧钱的事情，持续靠国家输血，终究很难长久推进技术研发，而光刻机企业通过占领后道光刻机市场则可以获得更多收入，推进前道光刻机的研发，形成良性循环。

由于在后道光刻机市场获得了大量收入，国产的光刻机企业确实在技术研发方面也在加速推进，国产光刻机在今年中传出的消息指已成功突破了浸润式光刻机技术，该项技术可以应用于28纳米到7纳米工艺。

对此予以佐证的则是ASML在今年9月份突然宣布对中国出口更先进的2000i光刻机，2000i光刻机可以用于生成7纳米，此前对中国出口的1980Di则主要用于28纳米，这意味着ASML肯定了中国取得7纳米光刻机技术的突破，它希望抓住时间窗口大举对中国出口更先进的2000i光刻机获取收入。

据称ASML这次对中国供应的2000i光刻机不仅量大，价格也实惠，因此中国的芯片纷纷抢购，甚至有芯片制造企业不仅为生产线大举购买2000i光刻机，还囤积了部分2000i光刻机，以作为后备的替代，ASML表示明年能否获得许可存在疑问。

ASML突然松口，说明了中国只要坚持技术研发，取得技术突破，海外的芯片设备企业就会迅速松口，证明了自主创新的重要性，只有自主研发真正取得了突破，海外芯片设备企业才会松口，正如知名院士倪光南所言，先进技术买不来、求不来，只能靠自研。