据韩国媒体Business Korea报导，三星电子DS部门研究员Kang Young-seok表示，三星使用的EUV光罩保护（EUV pellicles）透光率（transmission rate）已达90%，计划将进一步提高至94-96%。

据了解，光罩保护膜是一种薄膜，可保护EUV光罩表面免受空气中微分子或污染物的影响，这对于 5nm或以下节点制程的先进制程技术的良率表现至关重要。另外，光罩保护膜也是一种需要定期更换的消耗品，而由于 EUV光刻设备的光源波长较短，因此保护膜需要较薄厚度来增加透光率。其中，透光率90%的意思是只有90%进入薄膜的光线能到达光罩，这可能会影响电路图案的精度。

三星今年初声称已开发出透光率达88%的EUV光罩保护膜，且这款产品已经可以量产，而Kang表示三星EUV保护膜透光率再度增加到了90%。这比更常见的氟化氩（ArF）制程中使用的薄膜透光率（99.3%）要低。

当EUV光罩保护膜在250瓦光源下操作时，每平方公分会产生的5瓦热量，导致温度高达680℃以上，因此除了降低光源衰退外，还必须解决光罩护膜在EUV过程中遇到的翘曲或断裂等散热问题。

据报导，三星已经在主要客户的部分先进EUV代工生产线上导入了EUV光罩护膜。虽然三星也在DRAM生产线中采用EUV制程，但考虑到生产率和成本，该公司认为即使没有光罩护膜也可以进行內存量产。

目前光罩保护膜主要供应商是荷兰ASML，日本三井化学、信越化学，韩国S&S Tech、FST等。

据Kang透露，三星并没有使用韩国国内供应商提供的EUV光罩护膜，而是与日本三井化学合作，为唯一供应商。

虽然FST和S&S Tech等韩国公司正积极开发EUV光罩护膜，但还没实现量产。相比之下，台积电早在2019年开始使用自行开发的光罩保护膜，并已在7nm以下制程的生产线使用。2021 年宣布产能比2019 年提高了20 倍。