佳能是一家以相机和打印机闻名的公司，但它也有着悠久的芯片制造历史，曾经是光刻设备的领导者之一。12月25日消息，据媒体报道，佳能高管在接受采访时表示，纳米压印技术甚至可以生产电路线宽为2纳米的产品，并且该业务在全球只有佳能才有。它可以绕过EUV光刻，直接将电路图案压印到硅片上。
佳能半导体机器业务部长岩本和德称，纳米压印就是把刻有半导体电路图的掩膜压印到晶圆上，压印1次就可以形成电路，如果改进掩膜，甚至可以生产电路线宽为2纳米的产品。
从2017年左右开始，佳能就与铠侠和大日本印刷3家持续进行合作开发，“目前量产用途的实用化已有眉目，我认为可以面向客户销售。”同时其还表示佳能已收到了半导体厂商、大学、研究所的很多咨询，“由于引进EUV光刻设备需要庞大成本，作为替代措施的纳米压印备就备受期待。”
1、纳米压印的基本原理
光刻机原理
首先，回顾一下光刻的原理，其实就是曝光显影，把光透过掩膜版照在硅片上的光刻胶涂层上，让胶体曝光后发生变化（正胶曝光后变软、负胶曝光后变硬），再用化学溶剂去软存硬，就把可以把掩膜版上的微观电路印制到晶圆上。
而纳米压印的原理则简单粗暴的多，就是机械倒模，它所使用的模板是一个立体的模具，把纳米级别的电路图形直接压出来。理论上，纳米压印就跟火漆印章，一个道理，直接把电路刻在模具上，然后印上去！就是这么的简单粗暴！
实际上，纳米压印的概念早在90年代，就已经提出，但迟迟未能商业化。现在之所以被重新提出，是因为当芯片越做越小，已经逼近光刻方案的衍射极限。
光的衍射
光刻的衍射极限：到了纳米尺度，光的波动性越来越强，其衍射现象，会导致曝光图形失真。
根据佳能官网的数据，近期佳能所推出的那款纳米压印机，声称可以做到14nm的线宽，对应5nm工艺。如果通过改进模板，甚至能做到10纳米线宽，3nm工艺。
2、纳米压印技术优势
在这种背景下，新兴的纳米压印技术受到关注。该技术使用模具，通过施加压力将纳米级图案“压印”到芯片材料上。其工艺简单，不需要复杂的光学系统。
佳能最近推出的工业化压印设备FPA-1200NZ2C，实现了这一技术的商业化应用。相比光刻机，这种设备更简单、成本更低，还可以节约90%的电力。这可能成为芯片制造的一大革命。
这种技术可以实现5纳米级别的芯片制造，这种技术与传统的光刻技术相比，具有成本优势，例如能降低40%制造成本，并使耗电量减少90%。随着技术的持续进步和优化，其设备将有望实现下一代2纳米的生产水平。这种技术由于其新颖性，它不太可能被现有的贸易限制明确禁止。一旦纳米压印技术成熟并得到验证，其巨大的成本优势将对光刻机市场形成冲击。
3、中国企业正在抢抓纳米压印机遇
中国企业已经开始行动，抢占这一新兴技术制高点。
比如苏大维格、美迪凯等国内设备企业，都已启动了纳米压印技术的研发工作。这些企业虽起点较晚，但并非完全没有基础。
在 Observatory 行业发展趋势，顺应技术演进方向，中国企业也有机会成为这一领域的后来居上。
更重要的是，这种新技术为中国突破长期以来的芯片制造技术壁垒提供了契机。我们可以借助这一东风，重启自主创新，实现芯片制造的自主可控。
但是，我们也要清醒看到，要取代光刻机并非易事。先进光刻机技术已在产业中得到广泛商业化应用，市场格局和生态已日趋成熟。新技术能否完全颠覆其地位，还有待观察。
具体来说，我们需要关注几点：首先是成本优势能否长期持续；其次是产量是否能够快速提升；最后是产品质量是否能稳定保证。这需要通过市场检验。
因此，尽管抱有希望，我们也需保持理性。
中国需要在光刻机和新技术两个方向上同步发力，保持开放态度，才能为芯片制造业赢得更大发展空间。
