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ASML最新EUV光刻机:27亿元,150吨重,250人要安装180天
2024-02-20 来源:科技专家
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关键词: 光刻机 芯片 英特尔

众所周知,目前全球仅ASML一家能够生产EUV光刻机


目前ASML对外出货的光刻机,其实均是数值孔径NA=0.33的光刻机,这种称之为低数值孔径的光刻机,一般用于3nm-7nm芯片的光刻。


而当芯片进入到3nm之下,也就是2nm、1.4nm、1nm芯片时,需要用到高数值孔径的光刻机,也就是NA=0.55的光刻机,型号应该是EXE:5200。


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前段时间ASML终于将全球首台高数值孔径的光刻机EXE:5200,交付给了英特尔。


这台光刻机有多恐怖?首先是售价高达3.5亿欧元(约合27亿元人民币)。同时其大小约等于一辆双层巴士,重量高达150吨,也就是150000KG。


而这样的光刻机,是无法安装完全后,再运输的,运输时以会拆开,以组件的方式运送到客户单位,然后再组装。


运送的时候,需要用到250个货箱,而安装的时候,需要用到250名工程师,然后需要6个月的时间,才能全部组装完成,并联调到位。


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所以,虽然ASML向英特尔交付了全球首台高数值孔径的EUV光刻机,但实际上,只是运送到英特尔,接下来这台光刻机正式启用运转,至少得半年之后。


而按照英特尔的计划,自己的INTEL 2工艺,也就是2nm芯片,得到2025年才能制造出来,所以这台光刻机的实际运转日期,也会到2025年去了。


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之前ASML的总裁称,当数值孔径达到0.55之后,暂时可能就会告一段落了,甚至是最后一代EUV光刻机都有可能,ASML表示在现有技术条件之下,他们无法再提升数值孔径了。


目前EUV光刻机提升分辨率,有三个方向,一是降低光源波长,但13.5nm的极紫外线已经是极限,无法再降低了。二是提升数值孔径,但这一步也卡住了,ASML表示无法提升了,0.55是极限了。


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还有就是提升光刻工艺因子,但目前的技术,也接近物理极限,无法提升了。


短时间来看,三个方向都是绝路,也就意味着EUV光刻机的分辨率暂时无法提升了,那么接下来,EUV光刻机的发展,会朝哪个方向呢?谁也不清楚。


那么佳能的NIL纳米压印等,在未来会不会接替EUV光刻机,成为主流呢?



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