全球诸多国家都在研发绕开ASML的EUV光刻机的芯片制造方案，不过目前为止真正量产其实仅有一家，而这种设备即将投入生产，将彻底改变芯片制造行业，大幅降低先进芯片制造成本，还将让ASML的EUV光刻机变成废铁。

推动芯片制造变革的是日本的佳能，佳能早在数年前就宣布研发成功无需浸润式光刻机的NIL工艺，不过当时的工艺还在10纳米以上，采用NIL工艺的也仅有日本铠侠，日本铠侠用这种工艺生产存储芯片。

由于NIL工艺局限于10纳米以上，导致它并未被全球芯片制造行业接受，为了进一步发展该项工艺，佳能曾扬言可以将该项工艺发展到5纳米，在过去两年它已成功将该项工艺发展到10纳米以下，如今更进一步将该项工艺推进到5纳米，可谓进展神速。

该项工艺的最大优势就是成本，NIL的设备成本仅为EUV光刻机的10%，而耗电量也只有EUV光刻机的10%，这就意味着采用NIL设备的5纳米工艺成本将降低九成，对于当下的芯片行业来说将极具吸引力。

从2022年下半年以来，全球芯片行业就进入供给过剩的阶段，导致全球芯片价格急跌，一些芯片的价格甚至暴跌九成，为了进一步降低成本，全球芯片企业都在寻求更低的芯片制造成本，为此一些芯片企业将芯片订单交给三星，迫使台积电降低代工价格，然而降价幅度最高也只有两成，远远无法满足要求，佳能的NIL工艺成本优势无疑将极具吸引力。

随着佳能宣布可以向全球供应5纳米的设备，全球芯片价格可望进入新一轮的下降周期，此前美国模拟芯片龙头就曾传出将芯片价格下降九成，借此确保它的市场，芯片价格大降给它带来巨大的压力，而佳能的NIL工艺对于这些美国芯片企业来说将是福音。

在美国芯片的压力下，或许部分芯片制造企业将开始大规模采用佳能的NIL设备，进而进一步降低芯片制造成本，相比起现有采用EUV光刻机生产的5纳米工艺，大幅降低九成芯片制造成本的NIL工艺将有望真正将芯片降低至白菜价。

佳能的NIL工艺对于ASML来说可谓是灭顶之灾，EUV光刻机为ASML的最大利润来源，原因就是全球仅有ASML能制造EUV光刻机，这也意味着ASML由此垄断着7纳米及以下工艺，然而如今佳能的5纳米NIL设备开始大规模交货，那么ASML在7纳米以下的垄断格局被打破，坐享厚利的局面不再存在。

其实当年在光刻机市场，真正的老大正是佳能，只不过后来佳能错失了浸润式光刻机市场，随后美国又将EUV光刻技术交给ASML，才导致佳能的没落，如今佳能再度进入先进芯片设备市场不过是拿回它应得的东西罢了，体现了佳能在该行业的深厚技术底蕴。

不过业界人士也认为佳能的NIL设备固然有巨大的潜力，但是考虑到当下拥有7纳米及以下工艺的三大芯片制造企业Intel、三星、台积电等都已采购了大量的EUV光刻机，他们不太可能短时间内抛弃EUV光刻机而转用NIL设备，这可能会给佳能的NIL设备销售造成困扰。

真正能帮助佳能进入7纳米以下芯片设备市场的其实是中国芯片，可惜的是由于众所周知的原因，佳能暂时无法将先进NIL设备卖给中国芯片企业，这成为佳能的遗憾，佳能打垮ASML可能会需要较长的时间。