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中国或将量产5纳米,限制光刻机供应挡不住中国芯前进的脚步
2024-02-22 来源:柏铭007
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关键词: 台积电 光刻机 芯片

业界人士指出,某科技企业即将发布的芯片预计性能接近5纳米,这是中国芯片的又一个重大进展,凸显出中国芯片行业在各方的协作下再次打破芯片工艺的限制,为国产芯片开辟了新道路。


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此前这家科技企业就以国内现有的芯片设备生产出接近7纳米工艺的芯片,凸显出它的创新性,以及国内诸多芯片技术人才在技术研发方面的独特优势。


以现有的DUV光刻机生产7纳米工艺,最早是台积电量产成功的,当时台积电先是以DUV光刻机生产7纳米工艺,确保7纳米工艺的进展,随后再以EUV光刻机生产7纳米工艺,进一步提升性能。


台积电如此做法也证明了它的正确性,三星则比台积电提前一年以EUV光刻机生产7纳米工艺,导致良率偏低、成本偏高,客户不接受,最终大多数芯片企业都接受了台积电的7纳米工艺,三星则未能以更先进的7纳米抢到客户。


谈到台积电先进工艺的研发,就不得不提到台积电前副总裁林本坚,他被誉为浸润式DUV光刻机之父,林本坚最先研发出浸润式DUV光刻机技术,不过当时占优势的日本光刻机企业看不上,处于窘境中的ASML找上门来合作,ASML也由此迅速成为全球最大的光刻机企业,由此双方一直合作研发浸润式DUV光刻机。


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林本坚为台积电快速推进先进工艺的研发立下了汗马功劳,他当然清楚DUV光刻机的极限,去年林本坚就指出中国完全可以DUV光刻机生产5纳米,如今中国芯片企业即将量产5纳米,印证了林本坚的预测。


中国这家科技企业当年也与台积电一起推进芯片制造工艺,从16纳米一直到5纳米,双方都有合作。与苹果只是将芯片交给台积电生产不同,这家中国科技企业与台积电一直都深入合作研发先进工艺。


当年台积电量产的第一代16纳米工艺性能较差,导致全球仅有两家芯片企业采用,中国这家科技企业正是第一代16纳米工艺的客户之一,随后双方又合作研发16纳米FinFET工艺,才获得全球芯片企业的认可,此后一直到5纳米工艺,这家中国科技企业都是台积电先进工艺的尝鲜客户,有力地帮助台积电提升了工艺良率。


如此做法也为这家中国科技企业积累了不少的芯片工艺研发技术,它在去年推出的5G芯片采用国产7纳米工艺,就被认为它出了大力;如今有望推出国产的5纳米工艺可以说是顺理成章吧,国产芯片工艺的进展,对于国内芯片企业具有很重要的意义,毕竟如今手机芯片、AI芯片都需要先进的工艺。


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国产先进工艺的进展,对于这家中国科技企业来说同样非常重要,它的诸多芯片诸如手机芯片、服务器芯片、AI芯片等都需要先进工艺,但是台积电却无法为它代工,这促使它不得不深入芯片工艺研发,这也将帮助它进一步抢占国内市场。



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