众所周知，EUV光刻机是制造7nm以下芯片，必须用到的半导体设备，且全球仅ASML一家能够生产，还不能卖给中国。

所以中国的芯片制造工艺要进入7nm以下，千难万难，除非中国能够自己制造出EUV光刻机出来，或者换一条路，不采用光刻工艺……

于是很多人就奇怪了，中国的模仿能力不是一流的么？那么将EUV光刻机拆了，将里面的零件一比一复制，不就造出来了么？

事实上，要造光刻机真没这么简单，之前网上流传一个故事，说ASML的工程师对中国去参观学习的工程师说，给你们光刻机的图纸，你们都造不出光刻机来。

虽然不是真假，看起来也有一点夸张，但实情也许还真是如此，特别是EUV光刻机，真的给我们图纸，也未必造的出来。

首先EUV光刻机非常复杂，全球有5000多家供应商，一共有45万多套零件，注意这里的单位是“套”，所谓的“套”，是指已经做了一些整合的零件了。

这45万多套零件，实际上还可以再拆分，如果按不可拆卸的最小单位来计算零件，据称至少超过300万个。并且这里面很多核心零件，是无法模仿的，有些零件甚至全球仅有那么一家厂商能够制造。

而这家厂商和ASML就有独家合作协议，比如蔡司的物镜系统等，我们拿什么去一比一复制出来？我们难道还难自己搞定5000多家供应链，自己制造出这300多万个零件？所以还真是给图纸，都造不出来。

其次，EUV光刻机也非常复杂，就算安装调试都是一个大工程，目前的EUV光刻机，重量超过150万，也就是15万公斤。

在ASML交付的时候，并不是一台整的机器交付的，而是分成若干个零件交付，运输的时候，一台EUV光刻机就需要250个货箱来运输。

然后运输到目的地之后，需要ASML安装250个装配工程师，再花180天的时间，才能安装调试完成，中间需要大量的技术、经验等。

所以不吹不黑，就算ASML将图纸给我们，一方面我们找不到这些合适的零件，二是我们找到了零件，都未必能够安装调试完成。更何况中间还有各种专利限制。

所以，研发EUV光刻机，真不是一件容易的事情，我们一方面虽然不能自己人灭自己人威风，要有信心，但另外一方面也要清楚，这事真的不容易，要有清醒认识，要有打一场攻坚战的准备。