据韩国媒体 BusinessKorea 报导，韩国产业通商资源部于 5 月 13 日对外宣布，全球光刻机龙头大厂阿斯麦（ASML）计划未来4年将在韩国建设光刻设备再制造工厂及培训中心，预计在 2025 年建设完成。

此次ASML计划在韩国新建的EUV再制厂，主要用途就是为韩国当地运行的EUV光刻机维护、升级提供助力，将耗资2,400亿韩元（2.1亿美元）。所谓再制造，是指通过必要的拆卸、检修和零部件更换等，将废旧产品恢复如新的过程。
 
ASML是全球唯一一家能够生产EUV光刻机的半导体设备供应商。但是ASML的EUV光刻机产能十分有限，一年只能生产30台左右EUV光刻机。
 
据了解，目前台积电已取得了50台EUV设备，而三星仅有10台。
 
此前韩国政府发布半导体强国建设战略规划，将对半导体研发和设备投资的税收减免最高将分别提至40～50%和10～20%，并且还拟斥资约 4500 亿美元建设全球最大的芯片制造基地，为芯片制造业企业减免税负、提供国家补贴。此次阿斯麦赴韩国建厂，对加快韩国半导体建设。