自从芯片产业的制造，采用光刻方式之后，光刻机就成为了不可或缺的设备之一。

而当光刻进入浸润式时代后，ASML抱着台积电大腿，豪赌浸润式，彻底崛起，将尼康、佳能等远远的甩在了身后，真正一家独大。

如今在浸润式光刻机领域，ASML份额超过90%，而在EUV光刻机领域，ASML的份额达到100%。

ASML不断的升级机器，第一代浸润式，升级为第二代浸润式、第三代浸润式……

EUV光刻机也是如此，普通EUV，第一代EUV，NA=0.33的低数值孔径EUV光刻机，再NA=0.55的高数值孔径EUV光刻机……

而晶圆厂，不断的追求更先进的工艺，从7nm到5nm，再到3nm，于是也得跟着ASML的脚步走，一代又一代的升级光刻机，将自己的旧光刻机更新换代……

除非你的工艺不进步了，死守28nm或14nm或XXnm，呆在原地不动，否则就要跟着ASML走……

直到ASML推出最新的NA=0.55高数值孔径EUV光刻机，也就是High-NA EUV光刻机，型号为EXE：5200的光刻机后，大家发现不对了，ASML说这是用于2nm及以下的芯片制造的。

因为这种光刻机实在是太贵了，售价高达3.5亿欧元（约合27亿元人民币），大小约等于一辆双层巴士，重量高达150吨，也就是150000KG，安装需要ASML派250名工程师，6个月的时间。

买这种光刻机，成本太高了，拿台积电为例，如果将现有的100多台EUV光刻机，全换成这种，需要近3000亿的换代成本。

台积电也受不了啊，于是近日台积电做了一个决定，暂时不买这种High-NA EUV光刻机，要基于原来的NA=0.33的光刻机，进行技术改进。

台积电认为，哪怕是采用旧的光刻机，应该也是可以实现2nm甚至2nm以下芯片制造的，哪怕良率低一点点，流程稍微复杂一点点，也会比投资几千亿来换新EUV光刻机成本更低。

而一旦台积电不买这种新光刻机，那么ASML可能就会是到麻烦了，甚至可能是“末路”，因为台积电一直是其EUV光刻机最大的客户，如果台积电不买，谁来买？intel、三星？估计这俩一旦看到台积电不买，也会学台积电的技术路线。

而成熟工艺的光刻机，比如DUV等，因为本身价格不贵，利润也不是很高，且竞争也大，只有EUV光刻机没竞争，才是ASML赚钱的根本啊。

可以说现在ASML是陷入了“工艺陷阱”了，如果跨不过去，可能就是末路，前路一片迷茫，因为芯片工艺逼近物理极限，EUV光刻机也就走进死胡同，花更高的成本去更新也无人买单了。