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芯片产业“发动机”将熄火,ASML->台积电->苹果,供应链危
2024-06-11 来源:科技专家
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关键词: ASML 台积电 苹果

是什么推动全球芯片产业进步的?当然是科技,是市场需求,推动着苹果、高通们研发一代又一代的先进芯片,然后台积电又制造一代又一代的芯片。


从28nm到14nm,再到10nm、5nm、3nm……似乎无止境一样。


但是,这些芯片工艺不断推进,加速迭代,从之前的几年一代,变成一年一代,又变成几年一代,什么是其最重要的“发动机”呢?


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其实是光刻机,特别是进入7nm之后,芯片工艺的推进,全靠EUV光刻机,因为全球只有ASML一家能够研制出EUV光刻机。


如果ASML没有新款光刻机推出,旧款的EUV光刻机分辨率支撑达到极限之后,那么芯片工艺就无法前进了,只能原地踏步,因为分辨率无法前进了。


这些年,ASML推出一代又一代的EUV光刻机,从最原始的EUV,再到现在的标准EUV,再到下一代的High NA EUV,再到理论中的Hyper NA EUV……


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一代比一代强,一代比一代分辨率高,这一代又一代推进整个芯片产业进步。


也因为光刻机,所以整个芯片产业,其实构成了一条垄断的产业链,那就是ASML生产EUV光刻机,台积电从ASML采购EUV光刻机,制造了全球90%的先进芯片。


而苹果、英伟达、高通、英伟达等,研发出先进芯片后,又交给台积电制造。


这条产业链,最核心的“发动机”还是ASML的EUV光刻机,可以说,只要这个光刻机出现问题,一定会极大的冲击整个芯片产业的发展,因为没有备胎。


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但如今,这个产业链的核心,可能就要熄火了,因为EUV光刻机,发展到High NA EUV之后,也许没有了下一代,ASML自己都不确定了。


标准EUV光刻机,数值孔径NA=0.33,可打印13.5nm的线宽,High NA EUV光刻机,NA=0.55,可打印8nm线宽,用于2nm以下芯片。


ASML认为,理论上还有Hyper NA EUV,其NA=0.75,可以打印5nm以下线宽,用于制造1nm及以下芯片。


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但是ASML也不确定这种 Hyper NA EUV 能不能制造出来,甚至ASML认为,就算制造出来了,其成本高到无法量产,晶圆厂也不会花大价钱来买它。


所以Hyper NA EUV可能只是传说,也许永远也没有了,那么High NA EUV就是最终一代,也是芯片产业最后的“发动机”了。


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那么很明显,以后这一条ASML->台积电->苹果/高通/英伟达等的芯片产业链,可能也会陷入危机之中了,因为没有光刻机推动,技术基本上就不会再进步了。


那么不管是ASML,还是台积电,亦或苹果、高通、英伟达等的垄断也会被打破,全球芯片产业都可能迎来变局或洗牌。


当然,这对我们而言是好事,因为目前先进工芯被美国垄断和掌控,这个链条里,中国大陆是被排除在外的,一旦洗牌,我们就有可能坐上牌桌了。



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