相较韩国半导体产业最早开始采用EUV光刻技术，相关产业存储器与晶圆代工时程相对落后。但韩国媒体《Business Korea》报导，近期中国台湾地区半导体企业加紧投资EUV光刻技术，进一步扩大竞争优势。

目前投资中国台湾地区最大外商的美商存储器大厂美光科技，除决定今年底美国总部安装ASML最新曝光设备NXE：3600D，美光还计划在台中DRAM工厂安装相同EUV光刻设备。代表美光科技将在中国台湾地区生产第一颗EUV技术DRAM，并持续增加投资。

除了美光科技积极部署EUV光刻技术，全球DRAM产业排名第四大的南亚科技也于4月宣布，投资3000亿元新台币在新北市兴建含EUV光刻设备的DRAM产线，预计2024年量产营运。

晶圆代工龙头台积电的EUV光刻设备产业影响力也有增加。今年第二季起，采用EUV光刻设备的7纳米及更先进制程技术占公司总营收49%，正从曝光设备厂商ASML采购更多EUV光刻设备，增加研发投入。包括台积电自行生产EUV光罩，以提升良率和制程效率。

韩国三星是全球首家采用EUV光刻技术的半导体企业，并在2019年首次量产，如今大规模发展EUV技术的还加上美光科技、台积电等中国台湾地区半导体企业。韩国市场专家指出，基础设施持续扩张，预计为中国台湾地区半导体产业带来更强大的竞争优势。