2021年12月8日，英诺赛科（珠海）科技有限公司为ASML光刻机成功导入8英寸硅基氮化镓量产线举办了庆典。英诺赛科于2021年引入ASML光刻机，凭借着其卓越的成像性能和独特的TWINSCAN架构（双晶圆工件平台），英诺赛科进一步提升了硅基氮化镓功率器件制造的产能及产线良率。此次庆典上，ASML副总裁兼中国区总经理沈波代表ASML被英诺赛科授予“最佳战略合作伙伴”称号。

近年来，相较传统硅材料，氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC) 等第三代半导体，以其更小尺寸、更高转换频率、更高功率密度等特点，逐渐成为了全球半导体产业的新焦点。此新材料可满足节能、减排、智能制造等全球战略需求。氮化镓是“第三代半导体”关键材料之一，具有广阔的市场前景，可渗透到包括消费、工业和汽车类电子应用领域。作为全球领先的8英寸硅基氮化镓芯片制造商（IDM），英诺赛科一直致力于推动第三代半导体制造技术的创新和革命。

英诺赛科首席执行官孙在亨表示：“我们在今年第二季度引进了ASML光刻机，改善了光刻工艺窗口，进一步提高了产能和产线良率，带来了可观的成本效益。在设备入驻后，双方技术团队密切合作，通过现场验证和快速迭代，技术挑战迎刃而解，在短短三个月内实现试生产，最终在10月进入正式量产阶段。通过与半导体设备领跑者ASML的合作，加快了英诺赛科产品推向市场的速度，助力了氮化镓半导体的蓬勃发展。”

这是一次重大突破，ASML光刻机首次进入8英寸硅基氮化镓量产线。为了给英诺赛科提供更有力的支持，ASML始终根据其制造需求不断升级光刻设备ASML光刻机的顺利入驻将持续助力英诺赛科的大规模量产，为其长期发展保驾护航。

“我们很荣幸能成为英诺赛科的合作伙伴，并为此次得奖感到自豪。英诺赛科的蓬勃发展反映了第三代半导体近年来的突飞猛进和长期的发展潜力”沈波说，“ASML一直致力于以领先的光刻技术为客户提供不懈的支持和服务，以推动整个半导体行业的创新发展。我们将继续为英诺赛科的持续发展提供先进的技术和优质的服务。”

ASML 深紫外光刻业务资深副总裁Ron Kool表示：“我们也欣喜地看到ASML TWINSCAN的卓越性能首次在8英寸硅基氮化镓芯片制造领域得到验证。我们完全有信心支持英诺赛科未来的持续增长。”